机数量：1台设备原理及用途：基本原理：通过高速旋转晶圆，利用离心力将光刻胶均匀铺展在晶圆表面，形成厚度可控的胶膜。在曝光后用显影液溶解光刻胶的曝光和未曝光部分，形成所需的微细图案。用途：本设备主要用于8英寸MEMS器件各种产品生产光刻工艺加工中的匀胶和显影工序。资金到位或资金来源落实情况:已到位项目已..
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