、硅刻蚀机数量：1台设备原理及用途：基本原理：在射频电压的作用下，溴化氢和氯气产生的等离子体和多晶硅反应生成四氯化硅和溴化硅，溴化氢同时有侧壁淀积作用，防止侧腐，生成物被抽出腔体，最终达到刻蚀的目的。用途：本设备为全新设备，主要用于8英寸MEMS器件各种产品生产中多晶硅导线、硅晶圆标记和硅浅槽的刻蚀工.
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