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超高真空磁控溅射沉积系统招标公告

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购品目:A********真空应用设备采购需求概况:主要功能:主要用于压电铁电功能化薄膜的制备:1)高精度成分与结构控制:通过不同靶材选择精确调控薄膜成分,调节溅射参数来优化晶体结构;2)低温沉积与异质外延生长:可以实现在低温下沉积高质量薄膜,兼容柔性衬底,同时可以在单晶衬底上实现晶格匹配,降低界面缺陷,提.
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